陈蓉✍️

陈蓉，女，1978年8月出生，出生于武汉，高中毕业保送进入中国科学技术大学，2001年获得学士学位，2006年获得美国斯坦福大学博士学位。

现任九三学社湖北省第八届委员会副主任委员，华中科技大学柔性电子研究中心副主任，武汉市科学技术局副局长（挂职）。

人物经历

教育经历

工作经历

2011年加入华中科技大学，担任机械科学与工程学院教授、院长助理，华中科技大学柔性电子研究中心副主任，集成电路学院、武汉国际微电子学院、光学与电子信息学院、中欧清洁与可再生能源学院特聘教授。

2022年4月，任九三学社湖北省第八届委员会副主任委员。

中国人民政治协商会议第十一届、十二届湖北省委员会委员，政协第十三届湖北省委员会委员（2024年1月补任），欧美同学会理事、武汉市欧美同学会副秘书长、湖北省政府办公厅特邀督查员、武汉市侨联第十届委员会顾问等。

任免信息

2022年4月，九三学社湖北省第八届委员会召开第一次全体会议，选举产生第八届常务委员会和新一届领导班子，陈蓉当选九三学社湖北省第八届委员会副主任委员。

社会兼职

国际ALD大会执行委员会委员、国际ALD应用大会暨首届亚洲ALD大会主席、欧盟HERALD（COST action MP1402-欧洲科学技术合作组织）成员、国际ECS大会ALD应用组委会委员，担任Physica B编辑，中国工程院旗舰期刊Engineering特邀青年通讯专家、中国兵器装备集团有限公司《表面技术》期刊评委会委员等，美国NSF基金、荷兰Technology Foundation STW、智利国家科技委员会评审、美国Lawrence-Berkeley国家实验室开放基金特邀评审专家，电气电子工程师学会IEEE Senior Member （纳米技术委员会）、美国真空学会（AVS）、美国电化学学会（ECS）、美国化学学会（ACS）、美国材料研究学会（MRS）、美国物理学会（APS）等国际学会会员，中国硅酸盐学会薄膜与涂层分会理事（兼任青年工作委员会委员）、中国机械工程学会机器人分会委员、机械工程学会、真空学会高级会员、湖北省人工智能学会理事，担任国家科学技术奖、全国创新争先奖、国家重点研发计划、国家自然科学基金等评审，Appl. Phys. Lett., J. Appl. Phys., ACS Nano, Chem. Mater., J. Phys.Chem., Langmuir, Appl. Surf. Sci.等期刊审稿人、Elsevier出版社书本计划审稿人等。

人才培养

执教课程

人物荣誉

主要成就

科研成就

教育部“新世纪人才支持计划”获得者，973青年项目首席科学家。担任国家973国家重大科学研究计划--青年科学家专题项目首席科学家，主持国家自然科学基金。围绕着原子层沉积、纳米颗粒制备、薄膜工艺与设备开发，承担了多项新能源与微电子相关项目的研究，是选择性原子层沉积技术的先驱者之一。获美国半导体研究协会Simon Karecki奖、首届德州仪器微电子领域女性领袖奖、英特尔研究院杰出执行和创新实践奖等。所在团队2008年获得Frost \u0026 Sullivan北美先进海量存储芯片方案技术创新奖，AlwaysOn全球250入选杰出团队，以及英特尔加利福尼亚州技术制造部门奖等一系列荣誉称号。在Advanced Materials, ACS Nano, 能量 \u0026 Environmental Science等国际知名期刊上发表论文50余篇；微纳制造领域发明专利14项，其中5项为美国专利，3项国际专利；主编撰写“十二.五”重点出版物一部；在相关领域的国际学术会议作特邀报告及其他报告40余次。

研究方向

1.原子层沉积技术与装备

2.柔性电子制造薄膜生长装备与工艺

3.机动车尾气净化技术

4.能源、电子领域的纳米器件开发。

微纳制造、纳米材料生长工艺及设备开发，薄膜制备工艺及应用；原子层沉积技术、微电子和新能源领域的纳米器件开发。将实验和理论相结合，研究纳米薄膜生长工艺及设备开发，用来解决未来电子和能源工业所即刻面临的挑战。研究的重点在于控制纳米材料的生长、结构、及其性能，用于制造和表征具有精确的物质组成、以及原子尺度上可控的纳米结构，将其整合成纳米器件，并开发相关高精度生长设备。

代表性著作

1.Zhengzheng Chen, Xiao Liu, Kyeongjae Cho, Rong Chen*, Bin Shan* “密度 Functional Theory Study of the 氧 Chemistry and NO Oxidation Mechanism on Low-Index Surfaces of SmMn2O5 Mullite” ACS Catal. 2015, 5, 4913.

2.Bin Huang, Wenjuan Yang, Yanwei Wen, Bin Shan*, Rong Chen* “Co3O4 Modified TiO2 Nanotube Arrays via Atomic Layer Deposition for Improved Visible-Light Photoelectrochemical Performance” ACS Appl. Mater. Inter. 2015, 7 （1）, 422.

3.Kun Cao, Qianqian Zhu, Bin Shan*, Rong Chen* “Controlled Synthesis of Pd/Pt Core Shell Nanoparticles Using 面积selective Atomic Layer Deposition” Sci. Rep. 2015, 5, 8470.

4.Chen-Long Duan, Xiao Liu, Bin Shan, and Rong Chen* “Fluidized bed coupled rotary reactor for nanoparticles coating via atomic layer deposition” Rev. Sci. Instrum. 2015, 86, 075101.

5.Wen-jie He, Hai-tao Zhang, Zhiyong Chen, Bo Chu, Kun Cao, Bin Shan, Rong Chen* “Generalized Predictive Control of Temperature on an Atomic Layer Deposition Reactor” IEEE Trans. Contr. Sys. Tech. 2015, 99 DOI: 10.1109/TCST.2015.2404898.

6.Wen-Jie He, Hai-Tao Zhang, Zhiyong Chen, Ji-Long Lin, Kan Tian, Bin Shan, Rong Chen* “Temperature Control for Nano-Scale Films by Spatially-Separated Atomic Layer Deposition based on Generalized Predictive Control” IEEE Trans. Naotechnol 2015, DOI: 10.1109/TNANO.2015.2471298.

7.Bin Huang, Kun Cao, Xiao Liu, Lihua Qian, Bin Shan*, Rong Chen* “Tuning the morphology and composition of ultrathin cobalt 氧化物 film via atomic layer deposition” RSC Adv. 2015, DOI: 10.1039/C5RA09782G.

8.Yanwei Wen, Xiao Liu, Xianbao Duan, Kyeongjae Cho, Rong Chen*, Bin Shan* “Theoretical Study of Li-Doped sp2-sp3 Hybrid 碳 Network for 氢 Storage" J. Phys. Chem.C 2015, 119 （28）, 15831,

9.Xiao Liu, Yanwei Wen*, Zhengzheng Chen, Bin Shan and Rong Chen* “First-principles study of the 钠吸附 and diffusion on phosphorene” Phys. Chem. Chem. Phys. 2015, 17, 16398.

10.Xiao Liu, Yanwei Wen, Bin Shan, Kyengae Cho, Z. Chen*, Rong Chen* “Combined effects of defects and hydroxyl groups on the electronic transport properties of reduced graphene 氧化物” Appl. Phys. A 2015, 118, 885.

11.Xiao Liu, Zhengzheng Chen, Yanwei Wen, Rong Chen, Bin Shan “Surface stabilities and NO oxidation kinetics on hexagonal-phase LaCoO3 facets: a first-principles study” Catal. Sci. Tech. 2014, 4, 3687.

12.Qingbo Wang, Yanwei Wen, Rong Chen, Bin Shan, “A hybrid functional study of the electronic and optical properties of tetragonal PbO-type phase of ZnO under pressure”, J. Alloys Compd. 2014, 586, 611.

13.Stephanie L. Candelaria, Rong Chen, Yoon-Ha Jeong, Guozhong Cao, “Highly porous chemically modified 碳 cryogels and their coherent nanocomposites for energy applications”, Energy Environ. Sci. 2012, 5, 5619.

14.Rong Chen, Zhengzheng Chen, Bo Ma, Xiaohong Hao, Neeti Kapur, Jangsuk Hyun, Kyeongjae Cho, Bin Shan, “CO 吸附 on Pt（111） and Pd（111） surfaces: a first-principles based lattice gas Monte-Carlo study”, Comp. Theo. Chem. 2012, 987, 77.

15.Zhengzheng Chen, Bin Shan, Rong Chen, “Electronic origin of the phase transition in ternary alloy Mo（Si1-x,Alx）2”, Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 101903.

16.Noureddine Tayebi, Yuegang Zhang, Robert J. Chen, Quan Tran, Rong Chen, Yoshio Nishi, Qing Ma, Valluri Rao, “An ultraclean tip-wear reduction scheme for ultrahigh 密度 scanning probe-based 数据 storage”, ACS Nano 2010, 4 （10）, 5713.

17.Rong Chen, Stacey F. Bent, “Chemistry for positive pattern transfer by 面积selective atomic layer deposition” Adv. Mater. 2006, 18, 1086.

18.Rong Chen, Stacey F. Bent, “Highly stable monolayer resists for atomic layer deposition on 锗 and 硅” Chem. Mater. 2006, 18, 3733.

19.Rong Chen, Hyoungsub Kim, Paul C. McIntyre, David W. Porter, Stacey F. Bent, “Achieving 面积selective atomic layer deposition on patterned substrates by selective surface modification” Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 191910.

20.Rong Chen, Hyoungsub Kim, Paul C. McIntyre, Stacey F. Bent, “Investigation of self-assembled monolayers as deactivating agents for atomic layer deposition of HfO2 high-k gate dielectric” Chem. Mater. 2005, 17, 536.

21.Rong Chen, Hyoungsub Kim, Paul C. McIntyre, Stacey F. Bent, “Self-assembled monolayer resist for atomic layer deposition of HfO2 and ZrO2 high-k gate dielectrics” Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 4017